CASIPM OpenIR  > 创新发展政策研究所
中国技术创新40年:四阶爬坡轨迹述评
雷家骕1; 刘影2; 戚耀元1; 张庆芝3
2019-03
Source Publication科技进步与对策
Volume36Issue:1Pages:152-160
Language中文
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.casisd.cn/handle/190111/8866
Collection创新发展政策研究所
Affiliation1.清华大学中国企业镼 长与经济安全研究中心
2.中国科学院科技战略咨询研究院
3.中国科学院大学公共政策与管理学院
Recommended Citation
GB/T 7714
雷家骕,刘影,戚耀元,等. 中国技术创新40年:四阶爬坡轨迹述评[J]. 科技进步与对策,2019,36(1):152-160.
APA 雷家骕,刘影,戚耀元,&张庆芝.(2019).中国技术创新40年:四阶爬坡轨迹述评.科技进步与对策,36(1),152-160.
MLA 雷家骕,et al."中国技术创新40年:四阶爬坡轨迹述评".科技进步与对策 36.1(2019):152-160.
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